半导体行业跟踪报告之二十三：产业政策持续加码，国产光刻机任重道远-241118-光大证券
光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光 买入（维持） 目前市场上的光刻机主要分为 g-line、i-line、 KrF、ArF、EUV 五代迭代更新，五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点，
报告摘要
光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光 买入（维持） 目前市场上的光刻机主要分为 g-line、i-line、 KrF、ArF、EUV 五代迭代更新，五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点，
核心要点
- 2024 年 11 月 18 日
- 在光刻机的更新迭代中，对光源、光学透镜、 分析师：刘凯
- 2023 年 ASML 合计销售光刻机 450 台，其中 EUV 销量为 53 台。
- 2024 年 9 月 5
- 2024 年 9 月 6 日，荷兰政府发布有关浸润式 DUV 光刻设备出口的
- 分析师：黄筱茜
- 风险分析：国产光刻机产业链研发进展不及预期
报告信息
- 文件全名
- 《半导体行业跟踪报告之二十三：产业政策持续加码，国产光刻机任重道远-241118-光大证券-28页.pdf》
- 适合读者
- 核心数据
- 市场规模为 170.9 亿美元，预计 2024 年将达 315 亿美元。
- ASML 在 10 纳米节点以下有 100%的市占率，是全球唯一
- 营收 298 亿美元，同比增长 34%；
- GAAP 净利润 84.8 亿美元，同比增长 43%。
- 机中的最先进产品，销售价格持续增长，2023 年平均售价为 1.91 亿美元，同比
- 核心议题
常见问题
《半导体行业跟踪报告之二十三：产业政策持续加码，国产光刻机任重道远-241118-光大证券》主要包含哪些内容?
光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光 买入（维持） 目前市场上的光刻机主要分为 g-line、i-line、 KrF、ArF、EUV 五代迭代更新，五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点，核心数据:市场规模为 170.9 亿美元，预计 2024 年将达 315 亿美元。;ASML 在 10 纳米节点以下有 100%的市占率，是全球唯一;营收 298 亿美元，同比增长 34%；。
这份报告由哪家机构发布?
本报告由根据观知海内信咨询发布,发布于 2024 年。
这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?
覆盖 2024 年,全文约 28。
这份报告是免费的吗?如何获取?
本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。
这份报告适合哪些读者?
适合战略规划、行业研究员等读者参考。
报告涉及哪些关键议题?
重点分析了制造、机械、工业、电子等议题。
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