半导体设备深度报告：详解光刻机｜ASML EUV光刻机｜上海微电子国产光刻机｜2018
光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，直接决定芯片制程与性能。本报告由华创证券出品，深度解析光刻机技术演进、ASML开放式创新模式及国产光刻机龙头上海微电子的突破。核心数据：ASML EUV光刻机单价近1亿欧元，市占率近80%，订单排至2019年达28亿欧元；上海微电子封装光刻机国内市占率80%、全球40%，已实现90nm制程。适合半导体设备投资者、行业研究员、电子工程师及关注国产替代的从业者。
报告摘要
光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，直接决定芯片制程与性能。本报告由华创证券出品，深度解析光刻机技术演进、ASML开放式创新模式及国产光刻机龙头上海微电子的突破。核心数据：ASML EUV光刻机单价近1亿欧元，市占率近80%，订单排至2019年达28亿欧元；上海微电子封装光刻机国内市占率80%、全球40%，已实现90nm制程。适合半导体设备投资者、行业研究员、电子工程师及关注国产替代的从业者。
核心要点
- 一、光刻是芯片生产流程中最复杂
- 最关键的步骤
- 二、光刻机的不断发展满足了芯片更小制程
- 更低成本的生产要求
- 三、开放式创新模式下时代的选择铸就光刻机绝对龙头ASML
- 四、上海微电子：国产光刻机的希望
- 五、风险提示
报告信息
- 文件全名
- 《机械设备行业~半导体设备深度报告（三）：详解光刻机~半导体制造业皇冠上的明珠-华创证券》
- 适合读者
- 核心数据
- ASML EUV光刻机单价近1亿欧元
- ASML市占率近80%
- 订单排至2019年达28亿欧元
- 上海微电子封装光刻机国内市占率80%全球40%
- 上海微电子已实现90nm制程
- 核心议题
常见问题
《半导体设备深度报告：详解光刻机｜ASML EUV光刻机｜上海微电子国产光刻机｜2018》主要包含哪些内容?
光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，直接决定芯片制程与性能。本报告由华创证券出品，深度解析光刻机技术演进、ASML开放式创新模式及国产光刻机龙头上海微电子的突破。核心数据：ASML EUV光刻机单价近1亿欧元，市占率近80%，订单排至2019年达28亿欧元；上海微电子封装光刻机国内市占率80%、全球40%，已实现90nm制程。适合半导体设备投资者、行业研究员、电子工程师及关注国产替代的从业者。核心数据:ASML EUV光刻机单价近1亿欧元;ASML市占率近80%;订单排至2019年达28亿欧元。
这份报告由哪家机构发布?
本报告由华创证券发布,发布于 2018 年。
这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?
覆盖 2018 年,全文约 24。
这份报告是免费的吗?如何获取?
本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。
这份报告适合哪些读者?
适合半导体设备投资者、行业研究员、电子工程师、国产替代关注者等读者参考。
报告涉及哪些关键议题?
重点分析了智能制造、半导体设备、详解光刻机、上海微电子等议题。
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